聚焦离子束-电子束双束电镜 FIB-SEM

2024-07-04 

TEM制样
截面分析
芯片修补与线路修改
微纳结构制备
三维重构分析
原子探针样品制备

 

适用于金属、半导体、陶瓷、高温合金、芯片等材料的微纳加工,芯片解理以及透射电镜(TEM)制样

样品要求

导电性好,尺寸小于5cm,推荐尺寸0.5*0.5cm。不导电的样品需要喷金/铂处理。

 

结果展示

案例一:特殊结构加工

案例二:双窗口TEM样

 

案例三:微纳加工

 

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