聚焦离子束-电子束双束电镜 FIB-SEM
2024-07-04
TEM制样 截面分析 芯片修补与线路修改 微纳结构制备 三维重构分析 原子探针样品制备
适用于金属、半导体、陶瓷、高温合金、芯片等材料的微纳加工,芯片解理以及透射电镜(TEM)制样
样品要求
导电性好,尺寸小于5cm,推荐尺寸0.5*0.5cm。不导电的样品需要喷金/铂处理。
结果展示
案例一:特殊结构加工
案例二:双窗口TEM样
案例三:微纳加工
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